硅基场发射阴极材料研究进展
DOI:
作者:
作者单位:

作者简介:

通讯作者:

中图分类号:

O462.4 TB383

基金项目:

河南省自然科学基金(411011800)和教育部骨干教师基金资助


Research Progress on Silicon-based Field Emission Cathode Materials
Author:
Affiliation:

Fund Project:

  • 摘要
  • |
  • 图/表
  • |
  • 访问统计
  • |
  • 参考文献
  • |
  • 相似文献
  • |
  • 引证文献
  • |
  • 资源附件
  • |
  • 文章评论
    摘要:

    场发射显示技术在原理上具有多种优越性能,可能在未来平板显示技术中居主导地位。硅基场发射阴极易于与其周边驱动电路实现集成,因而更具有明显的开发前景。在综述硅基场发射阴极材料最新研究进展的基础上,就其所面临的问题、可能的解决方案和未来的发展趋势做出了评述。

    Abstract:

    Due to its many-sided, principle-originated preeminent natures, the field emission technique probably predominates over the field of flat panel display in the future. Among all of the field emission cathodes, the silicon-based field emission cathode has been hoped much because of its easily-realized integration with the surrounding drive circuits. Based on summarizing the recent progress of silicon-based field emission cathode materials, a review on the facing problems, the possible solutions, and the development tendency in the future are presented.

    参考文献
    相似文献
    引证文献
引用本文

富笑男 李新建. 硅基场发射阴极材料研究进展[J]. 科学技术与工程, 2005, (3): 165-173.
FU Xiaonan, LI Xinjian. Research Progress on Silicon-based Field Emission Cathode Materials[J]. Science Technology and Engineering,2005,(3):165-173.

复制
分享
文章指标
  • 点击次数:
  • 下载次数:
  • HTML阅读次数:
  • 引用次数:
历史
  • 收稿日期:
  • 最后修改日期:2004-10-25
  • 录用日期:
  • 在线发布日期:
  • 出版日期:
×
律回春渐,新元肇启|《科学技术与工程》编辑部恭祝新岁!
亟待确认版面费归属稿件,敬请作者关注